砂光機的拋光速率低為了解決這個問題,最好的方法就是把拋光分為兩個過程去進行。
首先要進行粗拋,粗拋意圖就是去除磨光危害層,這一期間應具有最大功率去進行粗拋,構成的表層的危害是必需要操作的,不過也應當把拋光損耗降到最小;
首先要進行粗拋,粗拋意圖就是去除磨光危害層,這一期間應具有最大功率去進行粗拋,構成的表層的危害是必需要操作的,不過也應當把拋光損耗降到最小;
其次是(shi)精拋(pao)(pao),其是(shi)去除粗拋(pao)(pao)發作的(de)表層危(wei)害,使拋(pao)(pao)光危(wei)害減到最小。寬帶(dai)砂光機在進行(xing)拋(pao)(pao)光時,拋(pao)(pao)光帶(dai)平(ping)行(xing)并(bing)均勻地輕(qing)壓(ya)在原(yuan)材(cai)上,留心避免試樣飛(fei)出和因壓(ya)力太大而發作新磨(mo)痕。
再(zai)就是(shi)濕(shi)度太大會削弱(ruo)拋光(guang)作用(yong),使試樣中硬相呈現浮凸狀(zhuang)況;濕(shi)度太小(xiao)時(shi),由于沖突生熱會使試樣升溫(wen),光(guang)滑作用(yong)減小(xiao),磨面失去光(guang)澤(ze),嚴峻(jun)的話會呈現黑(hei)斑狀(zhuang)況。
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